国产光刻胶通过量产验证，武汉太紫微公司 T150 A 分辨率达 120nm
武汉东湖新技术开发区管理委员会宣布，光谷企业武汉太紫微光电科技有限公司推出的 T150 A 光刻胶产品通过了半导体工艺量产验证，实现全自主配方设计。该产品对标国际 KrF 光刻胶，极限分辨率达到 120nm，工艺宽容度和稳定性更高，坚膜后烘留膜率优秀，对后道刻蚀工艺更加友好，刻蚀后下层介质的侧壁垂直度表现优异。这一突破有望推动国内半导体光刻制造的进步。
IT之家
📮 热点投稿 @ZaiHuabot
🧧 双11活动整理 m.fanli.me
via 科技圈🎗在花频道📮
武汉东湖新技术开发区管理委员会宣布，光谷企业武汉太紫微光电科技有限公司推出的 T150 A 光刻胶产品通过了半导体工艺量产验证，实现全自主配方设计。该产品对标国际 KrF 光刻胶，极限分辨率达到 120nm，工艺宽容度和稳定性更高，坚膜后烘留膜率优秀，对后道刻蚀工艺更加友好，刻蚀后下层介质的侧壁垂直度表现优异。这一突破有望推动国内半导体光刻制造的进步。
IT之家
📮 热点投稿 @ZaiHuabot
🧧 双11活动整理 m.fanli.me
via 科技圈🎗在花频道📮
